第五十九章 1999年的ASML(2/2)

在2004年，ASmL选择和台积电合作，研究193nm波长的光源，把折射光源的介质从空气变成水。

    从此ASmL在高端光刻机领域彻底把尼康和佳能甩在了后面。

    采用水当介质的浸润式光刻机成功的把精度再次提高，而且成本低，研发快，仅仅5年时间，ASmL就拿下了全球一半多的市场，后来尼康、佳能想要跟进，已经晚了。

    而胡正明04年的时候在台积电担任首席技术官。

    周新认识马丁，是因为在半导体国际学会的现场，周新听过对方的演讲。

    当时双方地位相差太大，周新还只是博士生，压根没有搭话的机会。

    “哦！纽曼，很高兴认识你，我儿子很喜欢你设计的愤怒的小鸟。”马丁是非常典型的白人老头长相，几乎和二十年后没有区别。

    “同样很高兴认识伱，我一直认为ASmL是一家很有前途的企业，如果我不是自己创业的话，我会选择毕业之后来AmSL工作的。”周新回答道。

    周新在和马丁交谈的过程中，记忆被唤醒，他意识到ASmL如果不是在未来关键性技术突破上取得了领先地位，其实他们完全称不上垄断。

    并且后世华国被卡脖子最厉害的地方就是光刻机。

    他完全可以在2004年ASmL实现突围之前把ASmL买下来。

    ASmL的地位还没有那么高。

    唯一的问题在于，ASmL背后是飞利浦半导体和ASm国际，这两家公司都不差钱。