已经交付了大夏国产第一台28纳米的光刻机,虽然与as-l已经可量产的14n芯片制备工艺还有一个版本的差距,但也标志着大夏光刻机的飞跃进步,正在逐渐减少与as-l公司差距。

    目前大夏市场的半导体销售占了全球的三分之一,半导体进口替代需求迫切——”

    这位专家还未说完,首座上的那位先生便打断了他的讲话。

    “光刻机很难做吗?还是很好做?大夏能够反超我们吗?我需要你现在告诉我这些事,而不是分析市场,难道你要教我经商?”

    虽然这位已经入住白房子有段时间了,但还是有专家顾问不太适应这位的处事方式。

    但,又能怎么样呢?

    他可是能决定自己去留的人。

    这位半导体行业专家翻过了几页文件,十分朔实的回答道“高端的光刻机都是由熟万个精密零件、几百个执行器传感器,还有成千上万行代码组成的超复杂思维系统。

    它的内部运动精度误差不超过一根头发丝的千分之一。

    阿斯麦as-l是当今全球唯一一家高端光刻机制造商,每年仅出20台左右高端设备。

    目前as-l实验室已经攻克了7纳米光刻机的关键技术,所以大夏企业要实现光刻机和芯片对我们的反超,还需要十年到二十年左右的时间。

    值得注意是,据媒体报道目前在大夏有不少知名企业都在开始研究,或者已经参与芯片领域研发和投资,再加上大夏特殊的制度与扶持,我们的领先地位,或许将在未来的十年内,被其追赶上。”

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